超越 IEEE 预测，韩国研究团队研发出亚纳米级尺寸晶体管

韩国基础科学研究院的研究团队近日取得了突破性进展，成功研制出亚纳米级晶体管。这一技术的出现将引领下一代低功耗高性能电子设备的发展。

在传统的半导体制造工艺中，由于光刻分辨率的限制，很难将栅极长度减少到几纳米以下。然而，研究人员利用二维半导体二硫化钼的镜面孪生边界（MTB）金属相为栅极电极，并克服了这一难题。

通过原子级控制现有二维半导体的晶体结构并将其转化为一维镜像孪生边界 (MTB) 金属相，韩国研究人员成功研发出了一种新型的1D MTB 晶体管。这种晶体管具有固有的优势：简单的结构和极窄的栅极宽度可以最大程度地减少寄生电容，从而带来更高的稳定性。

IBS 的 JO Moon-Ho 所长对该技术前景表示乐观，并认为1D MTB 晶体管有望成为未来各种低功耗高性能电子设备的关键技术。

这项研究于7月3日发表在《自然•纳米技术》杂志上，得到了国际电气电子工程师学会 (IEEE) 的认可。根据IEEE发布的国际集成电路设备和系统路线图 (IRDS)，到2037年，芯片制程工艺将达到0.5纳米左右，晶体管栅极长度为12纳米。然而，韩国研究人员的研发成果显著超过了这个预测。

研究人员表示：“与传统鳍式场效应晶体管(FinFET)或GAA技术相比，这种新型的1D MTB 晶体管还具有固有的优势。”

这项突破性的研发工作为未来发展注入了新的希望，并为各种低功耗高性能电子设备提供了更加可靠和稳定的解决方案。